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全芯智造取得用于光源掩模优化的专利,提高了 SMO 的处理效率

发布时间:2024-08-22 16:19:42
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2024 年 8 月 21 日消息,天眼查知识产权信息显示,全芯智造技术有限公司取得一项名为“用于光源掩模优化的方法、设备和介质“,授权公告号 CN118092068B,申请日期为 2024 年 4 月。

专利摘要显示,根据本公开的示例实施例提供了用于光源掩模优化的方法、设备和介质。该方法包括:获取包括多个掩模图形的掩模版图和光源的信息;通过光刻仿真,生成利用掩模版图和光源在晶圆上形成的多个晶圆图形,多个晶圆图形分别对应于多个掩模图形;确定与多个晶圆图形的形成相关联的成像成本;以及基于成像成本,通过改变多个掩模图形中的至少一个掩模图形的目标尺寸,确定光源的目标照明模式和掩模版图。以此方式,无需对目标尺寸进行人工调整,提高了 SMO 的处理效率。

(责编: admin)

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