上海新微研发中心申请一种湿法刻蚀系统及湿法刻蚀终点判断方法专利，保证刻蚀的品质且刻蚀终点判断方便
发布时间：2024-08-22 18:16:30
2024 年 8 月 21 日消息，天眼查知识产权信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种湿法刻蚀系统及湿法刻蚀终点判断方法“，公开号 CN202310126912.2，申请日期为 2023 年 2 月。
专利摘要显示，本发明提供一种湿法刻蚀系统及湿法刻蚀终点判断方法，该湿法刻蚀系统包括循环模块、晶圆处理系统、中央控制系统及厂务系统，其中，循环模块包括循环槽及设有离子浓度检测装置和循环泵的第一管路；晶圆处理系统包括设有温度检测装置的晶圆处理单元及储液槽，晶圆处理单元通过第二、三管路分别与循环槽及储液槽连通，第二管路上设有温度控制器及第一副产物检测装置，第三管路上设有第二副产物检测装置；中央控制系统实时收集并处理各模块及系统的反馈信息，基于处理结果发出相应控制指令，厂务系统用于配制刻蚀剂及补液。本发明通过离子浓度检测装置及第一、二副产物检测装置与中央控制系统和厂务系统的结合，保证刻蚀的品质，且刻蚀终点判断方便。
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