CVD 是 Chemical Vapor Deposition 的缩写，中文名称为化学气相沉积，是一种镀膜技术。
CVD 镀膜是利用化学反应在基底表面生成薄膜的过程。在 CVD 镀膜过程中，将含有反应物的气体引入反应室中，在基底表面发生化学反应，生成薄膜。CVD 镀膜可以用于制备各种材料的薄膜，如金属、半导体、氧化物、氮化物等。CVD 镀膜的优点包括：可以制备高质量的薄膜，薄膜的纯度高、结晶性好、致密性高。可以在复杂形状的基底上制备薄膜，如曲面、微孔等。可以制备多层薄膜，通过控制反应条件和气体流量，可以在基底上制备不同材料的多层薄膜。可以实现大面积镀膜，适用于工业化生产。总之CVD 镀膜是一种重要的镀膜技术，具有广泛的应用前景。
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